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            無錫創(chuàng)想分析儀器有限公司

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            ICP光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)盤點(diǎn)

            發(fā)布時(shí)間:2026-05-14 09:25:50         點(diǎn)擊:252

            ICP光譜儀除中階梯光柵光學(xué)系統(tǒng)外,還有三大類核心光學(xué)方案,并配套完整的光源、進(jìn)樣、檢測與控制系統(tǒng)。

            一、其他主流光學(xué)系統(tǒng)(分光/色散)

            切爾尼-特納(Czerny-Turner):雙準(zhǔn)直鏡+平面光柵,結(jié)構(gòu)簡單、成本低,常見于單道掃描型儀器。

            帕邢-龍格(Paschen-Runge):凹面光柵直接分光,羅蘭圓排布,光效高、分辨率好,多用于多道同時(shí)型儀器。

            艾伯特-法斯梯(Ebert-Fastic):單塊大凹面鏡兼準(zhǔn)直/焦,像差補(bǔ)償好、結(jié)構(gòu)緊湊。

            羅蘭圓(ORCA):一次分光直達(dá)檢測器,光損小、穩(wěn)定性強(qiáng),近年全譜直讀儀器常用。

            創(chuàng)想儀器 ICP光譜儀

            羅蘭圓光學(xué)系統(tǒng)示意圖

            二、儀器整體核心組成(除光學(xué)系統(tǒng)外)

            ICP光源系統(tǒng)

            高頻發(fā)生器(RF):提供等離子體能量。

            石英炬管:三層同心管,通冷卻氣/輔助氣/載氣(氬氣)。

            感應(yīng)線圈:銅質(zhì)空心通水冷卻,點(diǎn)燃并維持等離子體。

            進(jìn)樣系統(tǒng)

            霧化器:同心/交叉型,將液體樣品轉(zhuǎn)為氣溶膠。

            霧室:去除大液滴,穩(wěn)定進(jìn)樣,提高精度。

            蠕動(dòng)泵:精準(zhǔn)輸送樣品,控制進(jìn)樣量。

            檢測系統(tǒng)

            光電倍增管(PMT):單通道高靈敏檢測,適合弱信號(hào)。

            固態(tài)檢測器:CCD/CID/CMOS,全譜直讀、多元素同時(shí)檢測。


            創(chuàng)想儀器 ICP光譜儀

            ICP檢測系統(tǒng)CCD

            數(shù)據(jù)處理與控制系統(tǒng)

            儀器控制軟件:控制射頻功率、氣體流量、進(jìn)樣參數(shù)。

            數(shù)據(jù)處理軟件:譜線識(shí)別、背景校正、干擾扣除、定量計(jì)算。


            創(chuàng)想儀器 ICP光譜儀

            創(chuàng)想儀器 ICP光譜儀

            ICP數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)

            輔助系統(tǒng)

            氣路系統(tǒng):高純氬氣(99.999%),控制三路氣體流量。

            冷卻系統(tǒng):水冷/風(fēng)冷,冷卻線圈、炬管、光學(xué)部件。

            恒溫系統(tǒng):光學(xué)艙恒溫(±0.1℃),減少波長漂移。

            三、光學(xué)系統(tǒng)對(duì)比

            光學(xué)系統(tǒng)

            核心特點(diǎn)

            適用場景

            中階梯光柵

            高分辨率、全譜覆蓋、二維色散

            全譜直讀、復(fù)雜樣品

            切爾尼-特納

            結(jié)構(gòu)簡單、成本低、掃描靈活

            單道掃描、常規(guī)分析

            帕邢-龍格

            光效高、穩(wěn)定性好、多通道

            多道同時(shí)、快速檢測

            羅蘭圓

            一次分光、光損小、抗干擾強(qiáng)

            高端全譜、痕量分析

             

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