連續(xù)X射線譜

       X射線光管利用由高壓產(chǎn)生的X射線束作為激發(fā)源。高能入射粒子或電子與靶元素中束縛力較弱的電子發(fā)生隨機(jī)碰撞后，電子減速，功能損失，損失的能量將以光子發(fā)射的形式出現(xiàn)，從而產(chǎn)生連續(xù)的X射線譜，稱為韌致輻射。

       XRF是一項(xiàng)非破壞性的元素定性和定量分析的技術(shù)，其原理是根據(jù)被入射X光提升到激發(fā)態(tài)的樣品，在回復(fù)到基態(tài)時(shí)，所放射的X光熒光，具有因元素種類和含量不同而有不同的波長(zhǎng)X光射線的特性。當(dāng)X光照射樣品時(shí)，有兩種主要的現(xiàn)象發(fā)生，即：散射現(xiàn)象（Scattering）和光電吸收（Photoelectric Absorption）。

高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜

特征X射線譜

       產(chǎn)生特征X射線所需要的最小能量等于相應(yīng)殼層電子的結(jié)合能，也稱為吸收邊能量，只有當(dāng)光管超出臨界激發(fā)電壓的狀態(tài)下，靶的特征線才會(huì)出現(xiàn)。

        電壓太高時(shí)，電子穿透深度過(guò)大，靶材的自吸收將會(huì)變得十分顯著。故而只有當(dāng)光管電壓等于臨界激發(fā)電壓的3-5倍時(shí)，可得到最佳的特征譜線強(qiáng)度。這對(duì)于選擇靶線激發(fā)輕元素分析具有指導(dǎo)意義。

       X射線譜由連續(xù)譜和標(biāo)識(shí)譜兩部分組成，標(biāo)識(shí)譜重疊在連續(xù)譜背景上，連續(xù)譜是由于高速電子受靶極阻擋而產(chǎn)生的軔致輻射，其短波極限λ0由加速電壓V決定：λ 0 = hc /( ev )為普朗克常數(shù)，e為電子電量，c為真空中的光速。標(biāo)識(shí)譜是由一系列線狀譜組成，它們是因靶元素內(nèi)層電子的躍遷而產(chǎn)生，每種元素各有一套特定的標(biāo)識(shí)譜，反映了原子殼層結(jié)構(gòu) 的特征。同步輻射源可產(chǎn)生高強(qiáng)度的連續(xù)譜X射線，現(xiàn)已成為重要的X射線源。